中芯工程師自曝國產DUV問題一堆 打臉量產28奈米

中國半導體中芯國際宣稱先進製程有重大突破，但知名半導體研究顧問透露，中芯工程師自曝，中國自行開發的DUV曝光機問題一推、效率並不好，甚至接到很多投訴電話。示意圖。（圖／新聞合成圖）

【新唐人亞太台 2022 年 09 月 12 日訊】中國半導體公司中芯國際不久前宣布，其先進製程有重大突破，不過，日前有知名半導體研究顧問SemiAnalysis分析師迪倫·帕特爾（Dylan Patel）透露，有中芯工程師自曝，中國自行開發的DUV曝光機問題一推、效率並不好，甚至接到很多投訴電話。

根據阿拉伯「半島電視台」報導，中芯日前傳出已掌握7奈米製程的消息，若中國想要跨進7奈米以下的先進製程，需要荷商艾司摩爾ASML獨家生產的EUV機台，但現階段在美國遊說下，ASML並未出貨EUV給中國，因此中國轉而積極囤積DUV，光是去年就狂掃81台。傳出中國就是使用DUV來製造高端晶片。

帕特爾指出，中芯國際工程師自己洩露這些DUV機器容易被投訴，問題一推，中國並未製造出功能良好的ArF曝光機。他並強調，中國使用外國設備製造晶片的技術落後很多年，其國產設備更是落後外國幾十年。

報導認為，帕特爾日前透露的情況「等於打臉之前傳出中國上海微電子即將量產28奈米 DUV的訊息」。

美國近期已經祭出多項措施，阻止高端晶片技術輸入中國，除了晶片法案鼓勵企業在美設廠外，並限制取得補助的企業，10年內不得於中國建造新廠或是擴充低於28奈米的先進製程。

緊接著，美國商務部上個月宣布禁止對中國出口用於3奈米以下製程的EDA軟體；上週則限制GPU雙雄超微（AMD）、輝達（NVIDIA）高階人工智慧（AI）晶片出貨中國。

新唐人亞太電視 莊麗存 綜合報導